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Hönle紫外線燈單元波長從 365 – 460 mm Hönle集團是全球UV市場的供應商之一。Hönle優質的產品廣泛應用于電子、微電子、精密工程、光學行業以及印刷、汽車、航空航天和制藥行業的制造工藝。Hönle產品用于電子、微電子、精密工程和光學工業的制造工藝，以及印刷、涂層、汽車、航空航天、制藥和光伏行業。

德國Hönle紫外線設備通過ISO 9001認證 Hönle集團是全球UV市場的供應商之一。Hönle優質的產品廣泛應用于電子、微電子、精密工程、光學行業以及印刷、汽車、航空航天和制藥行業的制造工藝。Hönle產品用于電子、微電子、精密工程和光學工業的制造工藝，以及印刷、涂層、汽車、航空航天、制藥和光伏行業。

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德國OWIS過濾器支架安裝直徑為 30 mm 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

OWIS旋轉平臺孔徑20 mm 同步齒形帶傳動 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR

德國OWIS測量臺測量范圍 5 mm 孔徑10 mm 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR